Teknologi Pembuatan Chip 8 Nanometer dari ASML Percepat Revolusi AI

ASML memperkenalkan sistem litografi menggunakan cahaya ultraviolet ekstrem (EUV) yang mampu membuat pola transistor terkecil berukuran 8 nanometer pada wafer silikon dalam satu langkah proses. Teknologi ini merupakan yang terkecil yang pernah diproduksi secara komersial di satu tahap pencetakan. Sistem ini menggunakan sumber cahaya EUV dengan kemampuan optik canggih untuk memproyeksikan pola melalui masker ke bahan kimia peka cahaya di wafer, memungkinkan kepadatan transistor 2,9 kali lebih tinggi dibanding teknologi sebelumnya. Beberapa perusahaan besar seperti Intel dan SK hynix telah menerima sistem ini. Kemajuan ini penting untuk mendukung percepatan proses manufaktur chip yang lebih efisien dan padat, khususnya untuk kebutuhan komputasi dan pusat data AI. Meskipun bertarif tinggi, teknologi ini juga membantu menjaga kesinambungan hukum Moore dalam pengembangan chip.