TLDR
Hefei Lumiverse Technology telah mengembangkan teknologi baru untuk pembuatan chip semikonduktor. Sumber cahaya EUV sangat penting untuk proses pembuatan chip yang lebih kecil dan lebih efisien. Chip 14nm tetap relevan untuk berbagai aplikasi, meskipun teknologi yang lebih canggih sudah ada. Sebuah perusahaan di Hefei, Cina, bernama Hefei Lumiverse Technology, mengembangkan teknologi sumber cahaya ultraviolet ekstrim (EUV) yang ukurannya kecil, seukuran meja kerja, untuk membantu produksi chip semikonduktor. Meski chip 14 nanometer bukan teknologi terbaru, mereka masih banyak dipakai karena cocok dari segi biaya dan performa untuk berbagai perangkat dan kendaraan listrik.Biasanya, alat litografi yang menggunakan teknologi EUV sangat besar dan mahal. Contohnya, mesin ASML yang digunakan di industri bisa berukuran sampai 12 meter panjang dan 4 meter tinggi. Ini membuat mesin tersebut sulit diakses oleh perusahaan kecil dan menengah.Hefei Lumiverse berhasil mengecilkan alat sumber cahaya EUV sehingga lebih terjangkau dan praktis, tanpa mengorbankan kemampuan produksi chip 14 nanometer yang efisien. Salah satu pelanggan mereka sudah memakai teknologi ini untuk membuat chip yang dipakai di otomasi industri dan kendaraan listrik.Ini adalah kemajuan penting karena memungkinkan lebih banyak perusahaan memproduksi chip sendiri tanpa harus bergantung pada alat besar dan mahal dari luar negeri. Hal ini juga membuka kesempatan untuk mempercepat inovasi teknologi chip lokal di Cina.Secara keseluruhan, teknologi ini bisa mendorong pertumbuhan industri semikonduktor di tingkat menengah dan memperkuat kemandirian produksi chip di berbagai sektor, sekaligus menurunkan biaya dan memperluas akses teknologi litografi modern.
