Courtesy of InterestingEngineering
China Kembangkan EUV Mini untuk Produksi Chip 14nm Skala Kecil
Memperkenalkan teknologi sumber cahaya EUV kompak berbasis high-harmonic generation yang memungkinkan produksi dan inspeksi chip skala kecil serta mengurangi ketergantungan China pada mesin litografi ASML yang mahal dan sulit diperoleh.
22 Nov 2025, 20.29 WIB
84 dibaca
Share
Ikhtisar 15 Detik
- Teknologi lithografi baru ini memberikan alternatif untuk produksi mikrochip dalam jumlah kecil.
- Dengan menggunakan generasi harmoni tinggi, sistem ini lebih sederhana dan lebih murah dibandingkan mesin lithografi tradisional.
- Inisiatif ini memperkuat upaya China untuk mandiri dalam teknologi semikonduktor.
Tiongkok, China - Para peneliti di China telah berhasil mengembangkan sumber cahaya extreme ultraviolet (EUV) yang kecil dan ringkas untuk memproduksi chip dengan ukuran 14 nanometer. Teknologi ini berbeda dari mesin tradisional ASML yang besar dan mahal, dan lebih cocok untuk produksi dalam jumlah kecil serta riset laboratorium.
Mesin baru buatan China menggunakan metode high-harmonic generation dengan laser femtosecond yang menembakkan cahaya ke gas argon. Keunggulan metode ini adalah tidak memerlukan cermin besar atau penggunaan tetesan timah, membuat desainnya jauh lebih sederhana dan hemat energi.
Konsumsi daya mesin ini hanya sekitar 1 microwatt per tembakan, yang jauh lebih kecil daripada mesin ASML yang membutuhkan 200 watt. Walaupun demikian, mesin ini tidak bisa digunakan untuk produksi chip secara masal karena jendela eksposurnya yang sangat kecil.
Teknologi mini EUV ini sangat berguna untuk keperluan inspeksi fotomask, prototipe chip kuantum, dan pemeriksaan struktur transistor. Selain itu, perangkat ini memulai langkah penting bagi China dalam mengurangi ketergantungan alat pembuatan chip buatan Barat.
Walaupun masih kalah jauh dalam hal kapasitas produksi massal dibandingkan mesin ASML, teknologi ini adalah terobosan yang menjanjikan untuk riset dan produksi chip 14 nm dan 28 nm, serta menunjang kemandirian teknologi di bidang semikonduktor.
Referensi:
[1] https://interestingengineering.com/science/china-ultraviolet-light-source-chip-making
[1] https://interestingengineering.com/science/china-ultraviolet-light-source-chip-making
Analisis Ahli
Prof. Zhang Wei (Ahli Nanoteknologi)
"Teknologi ini mungkin tidak akan langsung menggeser dominasi ASML, tetapi menawarkan solusi praktis dan hemat biaya untuk riset dan produk skala kecil yang esensial dalam ekosistem chip modern."
Dr. Li Ming (Spesialis Litografi EUV)
"Penggunaan high-harmonic generation dalam pembuatan chip menunjukkan jalur alternatif yang menjanjikan bagi negara yang menghadapi embargo teknologi, meski skalabilitas masih menjadi tantangan utama."
Analisis Kami
"Pengembangan teknologi EUV yang kompak dan murah ini menunjukkan terobosan signifikan dalam ekosistem manufaktur chip China, meski belum bisa menggantikan mesin ASML untuk produksi massal. Ini bisa menjadi fondasi kuat untuk riset lokal dan eksperimen yang sulit dijangkau sebelumnya, sehingga meningkatkan kecepatan inovasi domestik."
Prediksi Kami
Teknologi EUV kecil berbasis high-harmonic generation ini akan menjadi alat penting bagi laboratorium dan pabrik kecil di China untuk mempercepat inovasi chip 14 nm dan 28 nm, sekaligus memperkuat kemandirian teknologi negara tersebut.
Pertanyaan Terkait
Q
Apa yang telah dikembangkan oleh peneliti China?A
Peneliti China telah mengembangkan sumber cahaya lithografi ekstrem ultraviolet (EUV) berukuran desktop.Q
Bagaimana teknologi baru ini berbeda dari mesin ASML?A
Teknologi baru ini menggunakan laser femtosecond dan gas argon, tidak memerlukan cermin raksasa dan lebih sederhana dibanding mesin ASML.Q
Apa keuntungan dari mesin lithografi baru ini?A
Keuntungan dari mesin ini termasuk ukuran yang lebih kecil, biaya yang lebih rendah, dan konsumsi daya yang jauh lebih sedikit.Q
Mengapa China membutuhkan teknologi ini?A
China membutuhkan teknologi ini karena tidak dapat membeli mesin canggih dari ASML dan ingin mengurangi ketergantungan pada alat dari Barat.Q
Apa saja aplikasi potensial dari teknologi lithografi baru ini?A
Aplikasi potensial termasuk inspeksi chip, prototyping chip kuantum, dan deteksi cacat fotomask.Artikel Serupa
