China Kembangkan EUV Mini untuk Produksi Chip 14nm Skala Kecil

Para peneliti di China telah berhasil mengembangkan sumber cahaya extreme ultraviolet (EUV) yang kecil dan ringkas untuk memproduksi chip dengan ukuran 14 nanometer. Teknologi ini berbeda dari mesin tradisional ASML yang besar dan mahal, dan lebih cocok untuk produksi dalam jumlah kecil serta riset laboratorium. Mesin baru buatan China menggunakan metode high-harmonic generation dengan laser femtosecond yang menembakkan cahaya ke gas argon. Keunggulan metode ini adalah tidak memerlukan cermin besar atau penggunaan tetesan timah, membuat desainnya jauh lebih sederhana dan hemat energi. Konsumsi daya mesin ini hanya sekitar 1 microwatt per tembakan, yang jauh lebih kecil daripada mesin ASML yang membutuhkan 200 watt. Walaupun demikian, mesin ini tidak bisa digunakan untuk produksi chip secara masal karena jendela eksposurnya yang sangat kecil. Teknologi mini EUV ini sangat berguna untuk keperluan inspeksi fotomask, prototipe chip kuantum, dan pemeriksaan struktur transistor. Selain itu, perangkat ini memulai langkah penting bagi China dalam mengurangi ketergantungan alat pembuatan chip buatan Barat. Walaupun masih kalah jauh dalam hal kapasitas produksi massal dibandingkan mesin ASML, teknologi ini adalah terobosan yang menjanjikan untuk riset dan produksi chip 14 nm dan 28 nm, serta menunjang kemandirian teknologi di bidang semikonduktor.