TLDR
Hefei Lumiverse Technology telah mengembangkan teknologi sumber cahaya EUV untuk memproduksi chip 14-nm. Chip 14-nm tetap menjadi pilihan yang relevan dalam otomasi industri dan kendaraan listrik. Teknologi semikonduktor terus berkembang, meskipun beberapa proses sudah tidak lagi menjadi yang paling mutakhir. Para ilmuwan dan insinyur di Hefei, Tiongkok, berhasil mengembangkan sumber cahaya ultraviolet ekstrim (EUV) berukuran desktop yang bisa digunakan untuk memproduksi chip dengan proses 14-nanometer. Ini adalah pencapaian penting karena alat EUV biasanya sangat besar dan mahal.Meskipun teknologi chip terbaru sudah mencapai 3-nanometer, chip 14-nanometer masih sangat dibutuhkan karena menawarkan keseimbangan yang baik antara performa, harga, dan efisiensi daya. Chip ini banyak digunakan di industri otomasi dan kendaraan listrik.Teknologi EUV adalah komponen penting dalam pembuatan chip berproses di bawah 7-nanometer. Namun, peralatan EUV konvensional seperti buatan ASML sangat besar dan mahal, sehingga sulit diakses oleh banyak perusahaan.Hefei Lumiverse Technology mengumumkan pencapaian ini pada konferensi akademik UltrafastX, sekaligus mengungkap bahwa sudah ada klien industri yang menggunakan sumber cahaya tersebut untuk produksi chip 14-nanometer.Inovasi ini berpotensi mengubah wajah industri semikonduktor dengan memungkinkan produksi chip yang lebih terjangkau dan mudah diakses, khususnya untuk aplikasi di kendaraan listrik dan otomatisasi industri.
