Courtesy of SCMP

Perusahaan Hefei Ciptakan Teknologi EUV Mini untuk Produksi Chip 14-Nanometer

Memperkenalkan inovasi teknologi sumber cahaya EUV yang lebih kecil dan efisien untuk memproduksi chip 14-nanometer yang digunakan dalam berbagai aplikasi industri dan kendaraan listrik, sehingga mengurangi biaya dan ukuran peralatan produksi chip.

21 Nov 2025, 13.00 WIB

285 dibaca

Ikhtisar 15 Detik

Hefei Lumiverse Technology telah berhasil mengembangkan teknologi EUV untuk produksi chip 14-nm.
Chip 14-nm tetap penting dalam berbagai aplikasi meskipun teknologi yang lebih baru tersedia.
ASML adalah pemimpin dalam industri lithografi dengan mesin canggih untuk pembuatan chip.

Hefei, Cina - Perusahaan Hefei Lumiverse Technology di China berhasil mengembangkan teknologi sumber cahaya ekstrem ultraviolet (EUV) berukuran kecil yang dapat digunakan untuk memproduksi chip dengan proses 14-nanometer. Inovasi ini sangat penting karena teknologi EUV biasanya sangat besar dan mahal, menyulitkan banyak pabrik chip untuk memanfaatkannya secara luas.

Walaupun chip 14-nanometer bukan teknologi terbaru, mereka tetap menjadi pilihan utama dalam berbagai perangkat seperti otomasi industri, mobil listrik, dan perangkat pintar karena menawarkan kombinasi hebat antara performa, efisiensi, dan harga. Dengan teknologi baru ini, produksi chip jenis ini bisa semakin efisien dan terjangkau.

Teknologi sumber cahaya EUV sering kali memerlukan mesin besar seperti yang dibuat oleh ASML, dengan panjang hingga 12 meter dan tinggi sekitar 4 meter. Sumber cahaya ini penting untuk membuat chip dengan proses lebih kecil dari 7-nanometer, tetapi biayanya sangat besar dan ukurannya menyulitkan integrasi.

Perusahaan Hefei Lumiverse Technology menyatakan bahwa salah satu klien industrinya sudah berhasil menggunakan teknologi ini untuk membuat chip 14-nanometer. Hal ini menunjukkan bahwa teknologi ini tidak hanya sebatas konsep, tetapi sudah mulai diaplikasikan dalam dunia industri.

Dengan inovasi ini, diharapkan produksi chip di China bisa semakin berkembang dan mandiri. Teknologi EUV yang kecil dan murah akan membantu mempercepat pembuatan chip kelas menengah yang masih sangat dibutuhkan di banyak sektor teknologi tinggi.

Referensi:
[1] https://www.scmp.com/news/china/science/article/3333641/china-uses-groundbreaking-desktop-sized-euv-light-source-make-14-nm-chips?module=top_story&pgtype=subsection

Analisis Ahli

Prof. Zhang Wei (Ahli Semikonduktor)

"Pengembangan sumber cahaya EUV yang lebih kecil dan ekonomis adalah langkah kunci untuk mengakselerasi kemandirian produksi chip di China, sehingga dapat memperkuat posisi negara tersebut dalam rantai pasok teknologi global."

Analisis Kami

"Inovasi Hefei Lumiverse Technology menunjukkan kemajuan penting dalam mengatasi keterbatasan fisik dan biaya teknologi litografi EUV yang selama ini menjadi kendala utama dalam manufaktur chip. Meskipun 14-nanometer bukan teknologi paling mutakhir, pendekatan ini sangat strategis untuk memenuhi kebutuhan pasar industri dan otomotif yang masih sangat bergantung pada chip kelas ini."

Prediksi Kami

Teknologi sumber cahaya EUV yang lebih kecil dan efisien akan mempercepat produksi chip kelas menengah di China dan berpotensi menurunkan ketergantungan pada peralatan impor yang mahal, membuka peluang lebih besar untuk pengembangan industri semikonduktor domestik.