TLDR
Hefei Lumiverse Technology telah berhasil mengembangkan teknologi EUV untuk produksi chip 14-nm. Chip 14-nm tetap penting dalam berbagai aplikasi meskipun teknologi yang lebih baru tersedia. ASML adalah pemimpin dalam industri lithografi dengan mesin canggih untuk pembuatan chip. Perusahaan Hefei Lumiverse Technology di China berhasil mengembangkan teknologi sumber cahaya ekstrem ultraviolet (EUV) berukuran kecil yang dapat digunakan untuk memproduksi chip dengan proses 14-nanometer. Inovasi ini sangat penting karena teknologi EUV biasanya sangat besar dan mahal, menyulitkan banyak pabrik chip untuk memanfaatkannya secara luas.Walaupun chip 14-nanometer bukan teknologi terbaru, mereka tetap menjadi pilihan utama dalam berbagai perangkat seperti otomasi industri, mobil listrik, dan perangkat pintar karena menawarkan kombinasi hebat antara performa, efisiensi, dan harga. Dengan teknologi baru ini, produksi chip jenis ini bisa semakin efisien dan terjangkau.Teknologi sumber cahaya EUV sering kali memerlukan mesin besar seperti yang dibuat oleh ASML, dengan panjang hingga 12 meter dan tinggi sekitar 4 meter. Sumber cahaya ini penting untuk membuat chip dengan proses lebih kecil dari 7-nanometer, tetapi biayanya sangat besar dan ukurannya menyulitkan integrasi.Perusahaan Hefei Lumiverse Technology menyatakan bahwa salah satu klien industrinya sudah berhasil menggunakan teknologi ini untuk membuat chip 14-nanometer. Hal ini menunjukkan bahwa teknologi ini tidak hanya sebatas konsep, tetapi sudah mulai diaplikasikan dalam dunia industri.Dengan inovasi ini, diharapkan produksi chip di China bisa semakin berkembang dan mandiri. Teknologi EUV yang kecil dan murah akan membantu mempercepat pembuatan chip kelas menengah yang masih sangat dibutuhkan di banyak sektor teknologi tinggi.
