Laboratorium AS akan menjelajahi litografi 'di luar EUV' untuk memproduksi semikonduktor yang lebih kuat dengan lebih cepat.
Courtesy of InterestingEngineering

Rangkuman Berita: Laboratorium AS akan menjelajahi litografi 'di luar EUV' untuk memproduksi semikonduktor yang lebih kuat dengan lebih cepat.

InterestingEngineering
DariĀ InterestingEngineering
29 Desember 2024 pukul 20.53 WIB
67 dibaca
Share
Laboratorium di California, yang dipimpin oleh Lawrence Livermore National Laboratory (LLNL), sedang mengembangkan teknologi lithografi ekstrem ultraviolet (EUV) yang lebih canggih. Proyek ini berfokus pada sistem laser baru yang disebut Big Aperture Thulium (BAT) laser, yang diharapkan dapat meningkatkan efisiensi sumber EUV hingga sepuluh kali lipat dibandingkan dengan laser karbon dioksida yang saat ini digunakan. Dengan teknologi ini, diharapkan dapat memproduksi chip yang lebih kecil, lebih kuat, dan lebih cepat dengan penggunaan listrik yang lebih sedikit.
LLNL telah melakukan simulasi dan demonstrasi laser selama lima tahun terakhir untuk mendukung proyek ini. Lithografi EUV menggunakan laser berdaya tinggi untuk memanaskan tetesan timah yang sangat kecil, menghasilkan cahaya ultraviolet yang digunakan untuk mencetak pola sirkuit terintegrasi pada chip. Proyek ini juga bertujuan untuk meningkatkan efisiensi energi dari sumber lithografi EUV yang ada, yang akan memberikan manfaat besar bagi industri semikonduktor yang terus berusaha membuat mikroprosesor lebih kecil dan lebih kuat.

Pertanyaan Terkait

Q
Apa tujuan utama proyek yang dipimpin oleh LLNL?
A
Tujuan utama proyek yang dipimpin oleh LLNL adalah untuk mengembangkan sistem lithografi EUV generasi berikutnya dengan menggunakan BAT laser.
Q
Apa yang dimaksud dengan BAT laser?
A
BAT laser adalah sistem laser yang dikembangkan oleh LLNL untuk meningkatkan efisiensi sumber EUV hingga 10 kali lipat dibandingkan dengan laser CO2.
Q
Bagaimana EUV lithography berfungsi?
A
EUV lithography berfungsi dengan menggunakan laser untuk memanaskan tetesan timah yang menghasilkan plasma, yang kemudian menghasilkan cahaya ultraviolet untuk mencetak pola pada chip.
Q
Mengapa efisiensi energi penting dalam lithografi EUV?
A
Efisiensi energi penting dalam lithografi EUV karena dapat mengurangi konsumsi listrik dan meningkatkan kecepatan produksi chip.
Q
Apa dampak dari proyek ini terhadap industri semikonduktor?
A
Proyek ini diharapkan dapat memberikan manfaat besar bagi industri semikonduktor dengan memungkinkan pembuatan chip yang lebih kecil dan lebih kuat.

Rangkuman Berita Serupa

Intel mengatakan bahwa mesin baru ASML sedang dalam produksi, dengan hasil yang positif.Reuters
Teknologi
1 bulan lalu
84 dibaca
Intel mengatakan bahwa mesin baru ASML sedang dalam produksi, dengan hasil yang positif.
AS merencanakan senjata laser nuklir untuk menembak bahan bakar fusi dengan presisi dalam proyek baru.InterestingEngineering
Sains
2 bulan lalu
44 dibaca
AS merencanakan senjata laser nuklir untuk menembak bahan bakar fusi dengan presisi dalam proyek baru.
Air menggerakkan akselerator laser-plasma AS dengan peningkatan efisiensi 100x untuk penelitian fusi.InterestingEngineering
Sains
2 bulan lalu
31 dibaca
Air menggerakkan akselerator laser-plasma AS dengan peningkatan efisiensi 100x untuk penelitian fusi.
Kombinasi elektro-optik seukuran koin dengan presisi 450 nm memajukan teknologi fotonik dan sensor.InterestingEngineering
Teknologi
3 bulan lalu
134 dibaca
Kombinasi elektro-optik seukuran koin dengan presisi 450 nm memajukan teknologi fotonik dan sensor.
Laboratorium AS menciptakan sumber sinar-X ter brightest di dunia dengan intensitas 2x untuk penelitian fusi.InterestingEngineering
Sains
3 bulan lalu
68 dibaca
Laboratorium AS menciptakan sumber sinar-X ter brightest di dunia dengan intensitas 2x untuk penelitian fusi.
Bagaimana terobosan EUV yang memenangkan penghargaan dari China menghindari larangan chip ASSCMP
Teknologi
3 bulan lalu
63 dibaca
Bagaimana terobosan EUV yang memenangkan penghargaan dari China menghindari larangan chip AS