NTHU Adopsi Teknologi MBX Multibeam Untuk Riset Chip Generasi Mendatang

Sains

Fisika dan Kimia

26 Jul 2026

1416 dibaca

3 menit

NTHU Adopsi Teknologi MBX Multibeam Untuk Riset Chip Generasi Mendatang

TLDR

Universitas Tsing Hua Nasional memilih platform MBX Multibeam untuk penelitian dan pengembangan semikonduktor.

Platform MBX memungkinkan penulisan pola sirkuit langsung pada wafer, mengurangi waktu siklus R&D.

Pemasangan pertama Multibeam di Taiwan menandai langkah strategis dalam ekosistem manufaktur semikonduktor global.

Pomodo.id - National Tsing Hua University (NTHU) telah memilih platform lithografi sinar elektron multikanal (EBL) MBX yang baru diluncurkan oleh Multibeam Corp untuk penelitian semikonduktor dan pengembangan proses canggih. Ini merupakan langkah penting bagi NTHU dalam mengadopsi teknologi mutakhir untuk riset chip generasi mendatang. Sistem ini akan dipasang di College of Semiconductor Research (CoSR) NTHU dan digunakan untuk penelitian akademis serta proyek pengembangan bersama dengan industri semikonduktor Taiwan. Pengiriman sistem ini dijadwalkan pada tahun 2027, menandai penerapan pertama Multibeam di ekosistem manufaktur semikonduktor terbesar di dunia.Platform MBX dirancang untuk mendukung pengembangan proses manufaktur guna integrasi chip canggih dan membantu para peneliti mempercepat transisi dari desain semikonduktor baru dari konsep di lab menuju teknologi siap produksi. Sistem ini dipilih setelah evaluasi terhadap kemampuannya dalam lithografi sinar elektron resolusi tinggi tanpa harus menggunakan cetakan, yang penting untuk aplikasi kemasan canggih seperti integrasi chip-first dan chip-last, serta interposer format besar. Tidak seperti sistem lithografi konvensional yang bergantung pada cetak pola (photomasks), platform MBX memungkinkan peneliti untuk langsung menulis pola sirkuit pada wafer. Pendekatan ini memungkinkan pembuatan tata letak chip baru segera setelah desain selesai, sehingga menghilangkan kebutuhan untuk memproduksi cetakan untuk setiap iterasi desain yang berbeda, serta secara signifikan memperpendek waktu riset dan pengembangan.

Teknologi Lithografi Sinte Elektron

Teknologi lithografi sinar elektron (EBL) menggunakan sinar elektron untuk mengungkapkan pola pada permukaan wafer dengan akurasi tinggi, yang penting dalam pembuatan chip canggih. Salah satu keuntungan utamanya adalah kemampuannya untuk membuat pola tanpa memerlukan cetakan, yang sering kali memakan waktu dan biaya. Hal ini mengubah cara chip di desain dan diproduksi, memungkinkan iterasi yang lebih cepat dan desain yang lebih kompleks. Meskipun sangat efektif, EBL biasanya lebih lambat dibandingkan teknik lithografi lainnya, tetapi peningkatan efisiensi dan kecepatan teknologi baru seperti MBX memberikan harapan untuk mempercepat proses ini.

Meskipun langkah ini menunjukkan kemajuan dalam pemanfaatan teknologi untuk riset chip, tantangan tetap ada dalam hal adopsi skala besar. Implementasi teknologi baru dalam industri memerlukan waktu dan integrasi yang tepat dengan infrastruktur yang sudah ada. Selain itu, keberhasilan proyek ini tergantung pada kemampuan NTHU untuk meyakinkan industri semikonduktor Taiwan bahwa teknologi ini akan memberikan keuntungan kompetitif yang signifikan.Ke depan, adopsi platform MBX di NTHU tidak hanya akan mempercepat penelitian di bidang semikonduktor tetapi juga berpotensi membuka jalan bagi inovasi baru dalam desain dan produksi chip. Ini mencerminkan komitmen universitas untuk tetap berada di garis depan penelitian semikonduktor dan dapat memperkuat posisi Taiwan dalam industri teknologi global. Pengembangan semikonduktor yang lebih cepat dan efisien dapat memengaruhi berbagai aplikasi dari perangkat konsumen hingga teknologi canggih yang mendukung AI dan Internet of Things (IoT).Artikel ini disintesis dari 1 sumber.--- Diterbitkan oleh Pomodo · Redaksi Pomodo Terbit: 26 Jul 2026, 00.05 WIB Ditulis dengan bantuan AI dan diperiksa akurasinya terhadap sumber. Menemukan kesalahan? Hubungi redaksi → [pomodo.id/contact](https://pomodo.id/contact)