China Ciptakan Prototipe Mesin EUV, Tantang Dominasi AS di Industri Chip

Ilmuwan di China telah berhasil menyelesaikan prototipe mesin Extreme Ultraviolet Lithography (EUV) pada awal tahun 2025. Mesin ini sangat penting untuk pembuatan chip semikonduktor paling canggih, yang selama ini didominasi oleh perusahaan Barat seperti ASML dari Belanda. Proyek ini berlangsung secara rahasia dan melibatkan mantan insinyur ASML. Proyek ini digambarkan sebagai 'Proyek Manhattan' versi China, dengan dukungan besar dari Huawei dan ribuan insinyur nasional. China tertarik untuk mengendalikan seluruh rantai pasok chip agar terbebas dari blokade teknologi yang dilakukan oleh AS selama bertahun-tahun. Mesin EUV yang dibuat masih berupa prototipe yang mampu menghasilkan cahaya ultra-ungu ekstrim tetapi belum bisa digunakan secara komersial untuk memproduksi chip. Tantangan utama saat ini adalah mereplikasi komponen optik yang presisinya sangat tinggi, terutama yang selama ini dipasok oleh perusahaan Jerman Carl Zeiss AG. Sejak 2019, China menawarkan insentif besar untuk merekrut para ahli semikonduktor global dengan gaji dan bonus yang menarik, termasuk mantan insinyur ASML yang bekerja secara rahasia. Mereka menargetkan produksi chip komersial menggunakan mesin EUV buatan dalam negeri pada tahun 2028, lebih cepat dari prediksi sebelumnya yaitu 2030. Pencapaian ini merupakan bagian dari inisiatif Presiden Xi Jinping selama enam tahun untuk mencapai kemandirian teknologi semikonduktor. Jika berhasil, hal ini akan mengubah peta persaingan teknologi dunia dan mengurangi efektivitas kontrol ekspor yang selama ini dilakukan oleh Amerika Serikat dan sekutunya.