Terobosan China dalam Memahami Photoresist untuk Tingkatkan Produksi Chip Canggih

Para ilmuwan dari Peking University dan rekan kolaborator berhasil menerbitkan penelitian penting di jurnal Nature yang mengungkap perilaku molekuler photoresist, bahan peka cahaya yang sangat penting dalam pembuatan chip. Photoresist digunakan dalam proses litografi untuk membentuk pola di permukaan chip, yang sangat krusial dalam teknologi manufaktur chip modern. Sebelumnya, perilaku molekuler photoresist dalam kondisi cair dan pada batas permukaan tidak dapat dipahami dengan jelas, sehingga pengendalian cacat pada proses pembuatan chip canggih seperti yang menggunakan teknologi 7 nanometer ke bawah sangat sulit dan cenderung hanya mengandalkan eksperimen trial and error. China selama ini bergantung pada impor bahan photoresist dari luar negeri, yang menjadi salah satu hambatan utama dalam upaya mencapai kemandirian teknologi chip. Situasi semakin sulit karena pembatasan penjualan mesin litografi canggih dari perusahaan asal Belanda, ASML, sejak 2019 atas tekanan Amerika Serikat. Penemuan terbaru ini dipandang sebagai langkah maju yang dapat mengurangi cacat produksi dan meningkatkan efisiensi manufaktur chip di dalam negeri. Dengan memahami perilaku molekuler photoresist, produsen dapat mengontrol dan mengoptimalkan proses litografi dengan lebih presisi. Terobosan ini diharapkan akan mempercepat ambisi China untuk mengurangi ketergantungan impor di sektor teknologi tinggi serta memperkuat posisi negara tersebut dalam industri semikonduktor yang sangat kompetitif dan strategis secara global.