Courtesy of SCMP

Terobosan China dalam Memahami Photoresist untuk Tingkatkan Produksi Chip Canggih

Menerobos keterbatasan teknologi litografi chip dengan memahami perilaku molekuler photoresist untuk meningkatkan pengendalian cacat dan hasil produksi, sehingga mendukung kemandirian teknologi chip China.

27 Okt 2025, 21.00 WIB

52 dibaca

Ikhtisar 15 Detik

Penemuan baru dalam perilaku fotoresist dapat mengurangi defek dalam produksi chip.
Kemandirian Tiongkok dalam produksi chip ditingkatkan melalui penelitian ini.
Masalah ketergantungan pada impor bahan fotoresist dapat mulai teratasi.

Beijing, China - Para ilmuwan dari Peking University dan rekan kolaborator berhasil menerbitkan penelitian penting di jurnal Nature yang mengungkap perilaku molekuler photoresist, bahan peka cahaya yang sangat penting dalam pembuatan chip. Photoresist digunakan dalam proses litografi untuk membentuk pola di permukaan chip, yang sangat krusial dalam teknologi manufaktur chip modern.

Sebelumnya, perilaku molekuler photoresist dalam kondisi cair dan pada batas permukaan tidak dapat dipahami dengan jelas, sehingga pengendalian cacat pada proses pembuatan chip canggih seperti yang menggunakan teknologi 7 nanometer ke bawah sangat sulit dan cenderung hanya mengandalkan eksperimen trial and error.

China selama ini bergantung pada impor bahan photoresist dari luar negeri, yang menjadi salah satu hambatan utama dalam upaya mencapai kemandirian teknologi chip. Situasi semakin sulit karena pembatasan penjualan mesin litografi canggih dari perusahaan asal Belanda, ASML, sejak 2019 atas tekanan Amerika Serikat.

Penemuan terbaru ini dipandang sebagai langkah maju yang dapat mengurangi cacat produksi dan meningkatkan efisiensi manufaktur chip di dalam negeri. Dengan memahami perilaku molekuler photoresist, produsen dapat mengontrol dan mengoptimalkan proses litografi dengan lebih presisi.

Terobosan ini diharapkan akan mempercepat ambisi China untuk mengurangi ketergantungan impor di sektor teknologi tinggi serta memperkuat posisi negara tersebut dalam industri semikonduktor yang sangat kompetitif dan strategis secara global.

Referensi:
[1] https://www.scmp.com/tech/tech-war/article/3330492/tech-war-chinese-researchers-claim-breakthrough-advanced-lithography-materials?module=top_story&pgtype=section

Analisis Ahli

Prof. Zhang Wei (Ahli Litografi Kuantum)

"Penelitian ini membuka pintu baru dalam memahami bahan photoresist, yang selama ini menjadi misteri besar dalam meningkatkan yield manufaktur chip. Jika diimplementasikan dengan baik, dapat mempercepat kemandirian China di teknologi litografi yang sangat strategis."

Analisis Kami

"Penemuan ini merupakan lompatan penting yang dapat membalikkan ketergantungan China pada impor kritikal dalam industri semikonduktor. Namun, kesuksesan jangka panjang masih bergantung pada kemampuan mereka mengintegrasikan temuan ini dalam proses manufaktur skala besar dan kompleksitas litografi modern."

Prediksi Kami

Dengan terobosan ini, China kemungkinan akan lebih cepat mengembangkan teknologi litografi dan meningkatkan produksi chip canggih secara mandiri dalam beberapa tahun ke depan.